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AI 算力需求的爆发式增长成为封装光刻设备需求的核心驱动力。AI 处理器通过 2.5D/3D 封装将GPU与HBM深度集成，以突破存储带宽瓶颈，这一架构对中介层（interposer）的线路精度提出纳米级要求。台积电 CoWoS 封装产能的快速扩张印证了这一趋势：其月产能从 2024 年的 3.5 万片晶圆跃升至 2025 年底的 7 万片，预计 2026 年底将达到 13 万片，而英伟达、AMD 等头部客户的集中下单，直接推动了对高精度中介层光刻系统的需求激增。值得注意的是，随着封装尺寸持续扩大，制造商正从传统圆形硅晶圆转向矩形基板，以降低材料损耗率，这对光刻设备的基板适配性与制程灵活性提出了更高要求。
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